天津某光电器件IC芯片创造厂，晶圆鑫霖环保整个过程中所产生含硅、氟的特出废液，构思办理整体规模1200吨/日。废液组分错综复杂，所含微米级硅颗粒剂及盐酸，常用办理的方式未能未达标。 废渣物质及起源 注意危害物 ：悬浊液硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 源环节 ：晶圆刻蚀工业废气（45%）、CMP化学上物理打磨抛光工业废气（40%）、机器设备擦拭水（15%） 工作工序具体步骤 企业创新用于"化工沉淀物+重型膜提取"技术水平线路： 钙盐发展 ：加药氯化钙的还原氟阴阳离子（添加CaF2水解） 斜管沉淀池作用 ：混合斜管沉淀池剂变现胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜挤占微细粒状 反渗入设计 ：脱盐率>98%，回收利用率75% 挥发沉淀 ：浓水段推动氟化物临“0”排放口 结果英文成果 氟化物氨水浓度：<8mg/L（小于政府考试内容一级规范标准10mg/L） 硅成分：<5mg/L 水土资源共享回收率：70%使用制冷塔补充水分 危废处理抑制：蒸发掉杂质量较传统文化工艺设备抑制60%